Hafnium oxide - 无机金属

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Hafnium oxide

氧化铪(IV) | 二氧化铪 | 微米氧化铪粉末 | Purity:> 99.9%

产品编号: SD-H811148 CAS 号: 12055-23-1 纯度: 99.9% metals basis;白色晶体;难溶于水，不溶于盐酸和硝酸，溶于浓硫酸和氢氟酸。化学性质不活泼，具有薄膜特性：透光范围：～220～12000nm；折射率（250nm）：～2.15 （500nm）～2，高熔点，具有宽带隙和高介电常数,紫外波段优良,成膜致密坚硬且稳定。【应用方向】：电子束蒸发镀制紫外膜、防反膜、高反膜、紫外-近红外多层膜; 高温结构材料、热电偶等器件绝缘中的耐火材料、DRAM电容器中的高κ电介质、抗放射性涂料。

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货号	价格 (￥)	库存	总额
H811148-5g	￥ 460	存货	￥ 0.00
H811148-25g	￥ 1200	存货	￥ 0.00
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技术参数相关产品

别名:	氧化铪(IV) ;二氧化铪。氧化铪（HfO2）是一种宽带隙、高介电常数的陶瓷材料。铪用于光学镀膜，并作为 DRAM电容器中的高k电介质，未来的集成电路，作为耐火材料....涂层：铪的光学和热性能使氧化铪纳米颗粒特别用于各种涂层，包括光学涂层等应用以及作为绝缘复合薄膜的成分。合成：与许多纳米材料一样，氧化铪纳米颗粒可用于合成各种相关化合物和结构。绝缘：氧化铪的高熔点使其特别用作高温设备的耐火绝缘体。电子：各种金属氧化物半导体、晶体管和其他电子设备和材料在其结构中使用氧化铪纳米颗粒，并在正在研究的领域中得到进一步应用。催化剂、添加剂、掺杂剂：与许多纳米粉末一样，氧化铪作为催化剂、掺杂剂和复合材料添加剂的价值已被彻底研究
MDL No.:	MFCD00003565
分子式:	HfO₂
分子量:	210.49
熔点:	2810 °C
贮存:	储存于阴凉、通风的库房，应与氧化剂、食用化学品分开存放，切忌混储，保持容器密封，远离火种、热源。建议设备：眼罩，手套，N95 型（美国），P1 型（EN143）呼吸器过滤器