Hafnium silicide powder | HfSi2 - 常用分析试剂

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Hafnium silicide powder | HfSi2

硅化铪 | 二硅化铪

产品编号: SD-H914213 CAS 号: 12401-56-8 纯度: 99%;理化性质:黑色粉体; 不溶于水，溶于氢氟酸。应用方向:互补金属半导体元件、薄膜涂层、块体结构组件、电热元件、热电材料和光伏材料等领域。（1）硅化铪用于陶瓷材料中，制造各种高温部件和功能部件；（2）可制备碳化硅–硅化铪–硅化钽(SiC–HfSi2–TaSi2)抗烧蚀复合涂层碳纤维增强碳(C/C)复合材料，可用于燃气涡轮发动机结构部件、适合在高温和氧化的环境下工作；（3）制备有机电致发光器件。包括依次层叠的阳极、发光层、阴极及封装盖; （4）制备一种耐高温抗氧化金属陶瓷复合涂层，该复合薄膜特征在于该涂层由难熔金属、难熔碳化物和金属间化合物组成。

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货号	价格 (￥)	库存	总额
H914213-5g	￥ 1750	存货	￥ 0.00
H914213-25g	￥ 4500	存货	￥ 0.00
H914213-1kg	￥ 0	存货	￥ 0.00

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技术参数相关产品

别名:	二硅化铪（HfSi2）是一种过渡金属硅化物，是一类难熔的金属间化合物，因其独特的物理和化学性质而被应用于金属陶瓷、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域。C/SiC复合材料材料中原位合成难熔金属碳化物（HfC、HfC、TaC）可明显提高其抗烧蚀性能，主要机理可归纳为抑制氧化作用、增强基体抗冲刷性能和弥补烧蚀后的缺陷，HfSi2可作为原位合成HfC的Hf源。性能特点： 1、纯度高：XRD检测无杂质相，或HfSi2+Si＞99%、氧含量低（XRD检测不含HfO2相），融渗反应温度低，产品密度好，无空洞； 2、分布集中：粒度标准正态分布，无双峰或者多峰，可以根据客户需求设计粒度分布范围；
MDL No.:	MFCD00167026
分子式:	HfSi2
分子量:	234.66
熔点:	1680℃
贮存:	储存于阴凉、通风的库房，切忌混储，保持容器密封，远离火种，库房必须安装避雷设备。