ITO | Indium Tin Oxide Nanopowder - 无机金属

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ITO | Indium Tin Oxide Nanopowder

氧化铟锡 | 掺锡氧化铟 | 纳米氧化铟锡 | (ITO, In2O3:SnO2=90:10, Purity: 99.9%, APS: 30nm，50nm，200nm，500nm，2μm)

产品编号: SD-I812170 CAS 号: 50926-11-9 纯度: 99.9%，Other Metal： 0.1%。氧化铟锡是铟（III族）氧化物(In2O3) and锡（IV族）氧化物(SnO2)混合物，比例：90%In2O3，10% SnO2。具有非常优异的导电性、透明度和稳定性。【应用方向】：透明导电体，光学涂料，电磁（EMI）屏蔽、介电润滑和VCSEL激光器反射器；LCD、OLED、等离子体、电致发光和电致变色显示器，有机发光二极管、太阳能电池、抗静电镀膜，EMI屏蔽的透明传导镀膜，红外反射涂层。

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货号	价格 (￥)	库存	总额
30nm-25g	￥ 1250	存货	￥ 0.00
30nm-100g	￥ 2980	存货	￥ 0.00
50nm-100g	￥ 2460	存货	￥ 0.00
200nm-100g	￥ 2300	存货	￥ 0.00
500nm-100g	￥ 2180	存货	￥ 0.00
2μm-100g	￥ 1980	存货	￥ 0.00

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别名:	氧化锡铟（ITO）粉末为黄绿色，但当它被沉积成厚度为1000 – 3000埃的薄膜时是透明的。当它沉积为玻璃或透明塑料上的薄膜时，其功用就是透明导电体。氧化锡铟（ITO）一般通过物理气相沉积工艺进行沉积，如直流磁控溅射或电子束沉积。另外的做法是将氧化锡铟（ITO）用恰当的成膜高分子树脂和溶剂系统融入墨水，用丝网印刷来沉积——这样做的透明度和导电率比物理沉积工艺低。氧化锡铟（ITO）一般通过物理气相沉积工艺进行沉积，如直流磁控溅射或电子束沉积。它还被应用于抗静电铟锡氧化物涂料、电磁（EMI）屏蔽、光伏太阳能电池、飞机挡风玻璃、冷冻箱玻璃除雾等技术中。氧化锡铟（ITO）的应用还包括红外反射涂层，可以用在诸如低辐射玻璃和低压钠灯中反射热能。
MDL No.:	MFCD00171662
分子式:	In₂O₃/SnO₂
分子量:	428.34
沸点:	82 °C
爆发点:	57.2 °F
贮存:	室温,易燃物区域。密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果，另应避免重压，按照普通货物运输。